Laser induced backside wet etching of fused silica absorption coefficient dependence /
Elmentve itt :
Szerzők: |
Vass Csaba Hopp Béla Smausz Tomi |
---|---|
Dokumentumtípus: | Cikk |
Megjelent: |
SPIE - The International Society for Optical Engineering
2003
|
Sorozat: | PROCEEDINGS OF SPIE - THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING
5131 |
doi: | 10.1117/12.513623 |
mtmt: | 1084034 |
Online Access: | http://publicatio.bibl.u-szeged.hu/9099 |
Hasonló tételek
-
Experiments And Numerical Calculations For The Interpretation of The Backside Wet Etching of Fused Silica
Szerző: Vass Csaba, et al.
Megjelent: (2004) -
Wet Etching of Fused Silica a Multiplex Study /
Szerző: Vass Csaba, et al.
Megjelent: (2004) -
Fabrication of 150 nm Period Grating in Fused Silica by Two-beam Interferometric Laser Induced Backside Wet Etching Method
Szerző: Vass Csaba, et al.
Megjelent: (2006) -
104 nm Period Grating Fabrication in Fused Silica by Immersion Two-beam Interferometric Laser Induced Backside Wet Etching Technique
Szerző: Vass Csaba, et al.
Megjelent: (2007) -
Comparing Study of Subpicosecond And Nanosecond Wet Etching of Fused Silica
Szerző: Vass Csaba, et al.
Megjelent: (2006)