Streptococcus mutans kolonizációja különböző fluoridot tartalmazó profilaktikus szerek alkalmazása után titán felszínen - in vitro vizsgálatok

A savas pH és a magas fluorid(F-)-koncentráció károsítja a titán felületek (Ti) korróziórezisztenciáját. A fogszuvasodás megelőzésének céljából alkalmazott különböző fluorid-tartalmú termékek (szájöblítők, gélek) gyakran magas (F-) koncentrációval rendelkeznek, mely általában alacsony pH-val társul....

Teljes leírás

Elmentve itt :
Bibliográfiai részletek
Szerzők: Barrak Ibrahim Ádám
Zsoldiné Urbán Edit
Laczkóné Turzó Kinga Mónika
Stájer Anette
Dokumentumtípus: Cikk
Megjelent: 2017
Sorozat:FOGORVOSI SZEMLE 110 No. 1
mtmt:3305973
Online Access:http://publicatio.bibl.u-szeged.hu/13649
Leíró adatok
Tartalmi kivonat:A savas pH és a magas fluorid(F-)-koncentráció károsítja a titán felületek (Ti) korróziórezisztenciáját. A fogszuvasodás megelőzésének céljából alkalmazott különböző fluorid-tartalmú termékek (szájöblítők, gélek) gyakran magas (F-) koncentrációval rendelkeznek, mely általában alacsony pH-val társul. Jelen vizsgálatunk célja annak megállapítása, hogy a különböző formában alkalmazott prevenciós szereknek milyen hatásai lesznek Streptococcus mutans baktériumsejtek megtapadására és a kolonizáció kialakulására különböző időtartam alatt. Streptococcus mutans (S. mutans) szuszpenzióval fedtük a különböző fluoridot tartalmazó oldatokkal kezelt titán felszíneket 5, 10, illetve 21 napig. Vizsgálatokat végeztünk a bakteriális fehérje mennyiségének meghatározására, valamint a titán felületeket pásztázó elektronmikroszkópos (SEM) eljárással tanulmányoztuk. Vizsgálataink alapján a 21 napos inkubációt követően szignifikáns eltérések voltak kimutathatók a szájöblítővel, valamint géllel kezelt korongok és a NaF-dal kezelt, illetve kontroll próbatestek között (p < 0,01 és p < 0,05). Ugyanakkor a SEM felvételek alapján a géllel kezelt korongokon korrózió jeleit láttuk. Eredményeink alapján elmondhatjuk, hogy a szájöblítő használatakor mutatható ki a legkevesebb baktérium a felszínen.
Terjedelem/Fizikai jellemzők:20-24
ISSN:0015-5314