Optinization of one- and two-dimenasional masks in the optical lithography

Elmentve itt :
Bibliográfiai részletek
Szerző: Farkas Richárd
További közreműködők: Kókai Gabriella (Témavezető)
Tollkühn Bernd (Témavezető)
Erdmann Andreas (Témavezető)
Dokumentumtípus: Szakdolgozat
Megjelent: 2003
Tárgyszavak:
Online Access:http://diploma.bibl.u-szeged.hu/655
Leíró adatok
További adatokért lásd a Minden adat megjelenítése... fület