High repetition rate PLD grown titanium oxide thin films
In this paper, we present a comprehensive study on the potentials and limitations of high repetition rate pulsed laser deposition ( PLD), using a diode- pumped solid state (DPSS) Nd : YAG laser, operated at 532 nm. Titanium oxide thin films were deposited at 5 Pa of oxygen on silicon substrates with...
Elmentve itt :
Szerzők: |
Búzás András Égerházi László Geretovszky Zsolt |
---|---|
Dokumentumtípus: | Cikk |
Megjelent: |
2008
|
Sorozat: | JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS
41 No. 8 |
doi: | 10.1088/0022-3727/41/8/085205 |
mtmt: | 1892885 |
Online Access: | http://publicatio.bibl.u-szeged.hu/18194 |
Hasonló tételek
-
Carbon nitride films of uniform thickness by inverse PLD
Szerző: Égerházi László, et al.
Megjelent: (2007) -
Targets for high repetition rate laser facilities needs, challenges and perspectives /
Szerző: Prencipe I., et al.
Megjelent: (2017) -
TiO2 thin films on si substrate obtained by PLD for sensing applications
Szerző: Bandas Cornelia, et al.
Megjelent: (2015) -
Time-resolved investigation of a high-repetition-rate gas-jet target for high-harmonic generation
Szerző: Nagyillés Balázs, et al.
Megjelent: (2023) -
Laser Wakefield Photoneutron Generation with Few-Cycle High-Repetition-Rate Laser Systems
Szerző: Papp Dániel, et al.
Megjelent: (2022)